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研究者情報

データ更新日：2024年03月22日

森本　章治　（もりもと あきはる）　理事　MORIMOTO Akiharu

メール 研究室ウェブサイト

所属組織・役職等

事務局　大学本部事務局

教育分野

【学士課程】
理工学域　電子情報通信学類　電気電子コース
【大学院前期課程】
自然科学研究科　電子情報科学専攻　電子物理
【大学院後期課程】
自然科学研究科　電子情報科学専攻　電子物性デバイス講座

所属研究室等

電子物理研究室　TEL:　FAX:

学歴

【出身大学院】
東京工業大学　修士課程　理工学研究科　電気・電子工学　1981/03　修了
【出身大学】
金沢大学　工学部　電子工学科　1979/03　卒業
【取得学位】
工学博士

職歴

金沢大学　工学部　助手(1981/04/01-1988/03/31)
金沢大学　工学部　講師(1988/04/01-1990/03/31)
金沢大学　工学部　助教授(1990/04/01-2002/03/31)
金沢大学　工学部　教授(2002/04/01-2008/03/31)
金沢大学　理工研究域　教授(2008/04/01-)
金沢大学　総合メディア基盤センター長(2014/04/01-2018/03/31)
金沢大学　自然科学研究科長(2018/04/01-2020/03/31)

生年月

1956年10月

所属学会

応用物理学会　会員(1981-)
日本学術振興会薄膜第１３１委員会　企画委員(1999-)
応用物理学会　薄膜・表面物理分科会常任幹事（企画幹事）(2001-2002)
応用物理学会　薄膜・表面物理分科会常任幹事（庶務幹事）(2007-2008)
応用物理学会　代議員(2008-2009)
応用物理学会　代議員(2010-2012)

学内委員会委員等

○工学部移転準備委員会　委員(1996-2003)
○教務委員会　座長(2002-2002)
○工学部教育方法改善委員会　委員(2002-2003)
○MOTコース「金沢MOT塾」(2003-)
○工学部　施設利用・整備委員会　委員(2004-2007)
○図書館・情報委員会　座長(2004-2006)
○金沢大学ボート部　その他(2004-)
○図書館委員会　委員(2005-2006)
○派遣型高度人材育成協同プラン　その他(2005-)
○理工学域　カリキュラム検討WG　委員(2006-2007)
○自然系学域再編WG　委員(2006-2006)
○大学活動広報委員会　委員(2007-2007)
○電子情報学類準備室長　委員長(2007-2007)
○高度専門留学生育成事業　その他(2007-)
○教育研究評議会　その他(2008-2009)
○理工系教育研究会議代議員会　委員(2008-2009)
○理工研究域　国際・産学連携委員会　委員長(2010-2011)
○イノベーション創出若手研究人材養成事業・産学連携による博士人材のキャリア形成教育　その他(2010-2014)
○セキュリティ対策部会　部会長(2011-2013)
○情報基盤企画調整部会　部会長(2011-2013)
○自然科学研究科　国際・産学連携委員会　委員長(2012-2013)
○セキュリティ対策部会　部会長(2012-2013)
○情報基盤企画調整部会　部会長(2012-2013)
○教育研究評議会　その他(2011-2013)
○情報企画会議　委員(2011-2013)
○情報戦略本部会議　委員(2011-2013)
○理工系教育研究会議代議員会　委員(2012-2013)
○自然科学研究科代議員会　その他(2012-2013)
○金沢大学　先端科学・イノベーション推進機構協力会　産学連携コーディネーター　委員(2016-2017)
○金沢大学　先端科学・イノベーション推進機構協力会　産学連携コーディネーター　委員(2017-2018)

受賞学術賞

○北陸情報通信協議会会長表彰(2018/06/01)
○第8回（2014年度）応用物理学会フェロー(2014/09/17)
○北陸産業活性化センター研究助成金(2000/04/01)
○材料科学技術振興財団研究助成金(1999/04/01)
○村田学術振興財団研究助成金(1995/04/01)

専門分野

応用物性・結晶工学、薄膜・表面界面物性、電子・電気材料工学

専門分野キーワード

レーザアブレーション、PLD、酸化物エレクトロニクス、強誘電体薄膜、不揮発性メモリ、 強誘電体不揮発メモリ、強誘電性分極誘起の光起電力効果

研究課題

レーザアブレーション法による不揮発メモリ用強誘電体薄膜の作製

レーザアブレーション法による不揮発メモリ用強誘電体薄膜の作製 酸化物エレクトロニクスの実現をめざして、レーザアブレーション法による薄膜堆積を研究の中心にしています。パルスレーザアブレーション(PLA)法による薄膜堆積は、パルスレーザービームを所望の材料で構成されたターゲット上で集光し、そのエネルギーで射出した材料粒子を基板上に輸送することによって行います。主に作製・評価しているのは、電源が無くても記憶を失わない不揮発メモリ用材料です。

強誘電性分極を用いたFe-ReRAM型不揮発メモリの開発

　この研究では，非鉛強誘電体であるBiFeO3(BFO)が分極の向きにより流れるリーク電流の大きさが変化することに注目しました。ただ，BFOはリーク電流が流れすぎるためジュール熱による破壊が起きやすい傾向にあります。そこで，BFOにNdを元素置換することによりリーク電流を抑えたBi1.0Nd0.1Fe1.0O3(BNF)のMFMキャパシタ構造を作製し，メモリ応用に向けた特性評価を行っています。
　スイッチング電荷量(QSW = P*-P^)電圧依存性では，分極反転の影響による急激な立ち上がりを確認しています。また，J-V特性では抵抗変化によるOFF状態とON状態の区別ができています。現在，作製条件などを調整し，さらなる特性の向上を目指しています。

強誘電性分極を用いた新規太陽電池の開発

この研究では、強誘電体による光起電力効果を利用した太陽電池に注目している。強誘電体における光起電力効果の原理に関しては詳細には解明されていないが、1つのモデルとして残留分極Prにより生じる減分極電界Edpが起源であると考えるモデルがある。そこで、本研究では巨大な残留分極値を有するBiFeO3(BFO)を基に、元素置換法を用いたリーク電流の抑制による強誘電性と光起電力効果の関係性の調査、またバンドギャップの低減を図る。

鉄系酸化物薄膜の作製と光電特性評価

Erドープ強誘電体薄膜の作製とPL発光の電界変調

Alリッチアルミナ層を用いた不揮発性メモリ開発

著書

  • 応用物理ハンドブック　丸善 (東京)　1990/02　原著書　共著　森本章治、他214名
  • 応用物理データブック　丸善 (東京)　1994/09　原著書　共著　清水立生、久米田稔、森本章治、他214名
  • Handbook of Thin Film Process Technology　1995/09　原著書　共著　A. Morimoto and T. Shimizu　他112名
  • [図解]薄膜技術　培風館 (東京)　1999/07　原著書　共著　森本章治、清水立生他49名　4-563-03541-6
  • レーザーマイクロ・ナノプロセッシング　シーエムシー出版　2004/11　原著書　共著　森本章治、他34名()　88231-476-2

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  • 超微細パターニング技術－次世代のナノ・マイクロパターニングプロセス－　サイエンス＆テクノロジー（東京） 　2006/02　共著　森本章治、他62名
  • レーザープロセシング応用便覧　NGTコーポレーション(東京) 　2006/05　原著書　共著　森本章治、他60余名
  • 最新レーザプロセシングの基礎と産業応用　オーム社（東京）　2007/03　原著書　共著
  • 薄膜ハンドブック（第2版）　オーム社（東京） 　2008/03　原著書　共著　森本章治、他執筆者332名
  • 薄膜ハンドブック（第2版）　オーム社（東京） 　2008/03　原著書　編著　森本章治、他執筆者332名
  • 薄膜ハンドブック（第2版）　オーム社（東京） 　2008/03　原著書　共著　森本章治、他執筆者332名
  • 薄膜工学　第2版　丸善 (東京) 　2011/07　原著書　共著　森本章治、他執筆者20名
  • 化学便覧 応用化学編　第7版 　丸善 (東京) 　2014/01　原著書　共著　森本章治、他執筆者多数

論文

  • Effect of Nitrogen Gas on Preparation of Ti-Al-N Thin Films by Pulsed Laser Ablation　A. Morimoto, H. Shigeno, 他3名　Applied Surface Science　127-129巻　994頁　1998/05　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Fabrication of Pb(Zr,Ti)O3/MgO/GaN/GaAs Structure for Optoelectronic Device Applications　A. Masuda, S. Morita, , A. Morimoto, 他5名　J. Crystal Growth　190巻　227頁　1998/06　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Influence of Pb incorporation on light-Induced phenomena in amorphous Ge100-x-yPbxSy thin films　A. Masuda, Y. Yonezawa, A. Morimoto, 他2名　J. Non-Crystal. Sol.　217/2巻　3号　121頁　1997/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Low-temperature Growth of YBCO Thin Films by Pulsed Laser Ablation in Reductive Environment　A. Morimoto, K. Takezawa, 他3名　Applied Surface Science　127-129巻　963頁　1998/05　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Nitrogen- and Ammonia-Plasma Nitridation of Hydrogenated Amorphous Silicon　A. Masuda, , , A. Morimoto, 他4名　Applied Surface Science　113/114巻　610頁　1997/04　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）

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  • Photoluminescence Enhanced by Excimer Laser Irradiation in Silicon Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Ablation　A. Morimoto, H. Takizawa, 他3名　J. Non-Crystal. Sol.　227-230巻　493頁　1998/05　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Size Distribution of Droplets in Film Prepared by Pulsed Laser Ablation　Y. Yonezawa, , , ,A. Morimoto, 他4名　Applied Surface Science　127-129巻　639頁　1998/05　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Removal of Surface Oxides on Copper by Pulsed Laser Irradiation　Y. Yonezawa, , A. Morimoto, 他2名　Jpn. J. Appl. Phys.　37巻　8号　4505頁　1998/08　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • LPE-Like Crystal Growth of YIG Ferrimagnetic Thin Films by Pulsed Laser Ablation with Molten Droplets　A. Morimoto, Y. Maeda, 他3名　Appl. Phys. A　69巻　7号　S703頁　1999/12　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Preparation of Epitaxial Ge Film on Si by Pulsed Laser Ablation using Molten Droplets　S. Yamada, S. Oguri, A. Morimoto, T. Shimizu, T. Minamikawa, Y. Yonezawa　Jpn. J. Appl. Phys.　39巻　4A号　L278頁　2000/03　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Effect of hot filament on preparation of YBCO superconducting films by pulsed laser ablation in nitrous oxide gas　A. Morimoto, K. Asada, 他3名　Thin Solid Films　395/1巻　2号　51頁　2001/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Rotational Honeycomb Epitaxy of Ru Thin Films on Sapphire (0001) Substrate　S. Yamada, Y. Nishibe, M. Saizaki, H. Kitajima, S. Ohtsubo, A. Morimoto, T. Shimizu, K. Ishida, Y. Masaki,　Jpn. J. Appl. Phys.　41巻　2B号　L206頁　2002/02　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Electron-Beam-Induced Nucleation Centers and Selective Deposition of Thin Zinc Films　X. Chen, A. Morimoto, K. Nagai, 他2名　Jpn. J. Appl. Phys.　41巻　2A号　775頁　2002/02　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Preparation of Twin- and Crack-Free LiNbO3 Films by Pulsed Laser Ablation Using Nucleation Process at High Temperature　S. Yamada, Y. Nishibe, S. Ohtsubo, Y. Yonezawa, A. Morimoto, T. Shimizu, K. Ishida, Y. Masaki, ,　Jpn. J. Appl. Phys.　41巻　3B号　L頁　2002/03　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Thin Film Patterning by Laser Lift-Off　Jpn. J. Appl. Phys.　41巻　5A号　3099-3100頁　2002/05　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Temperature simulation of Cooling Process of Ge Droplets in Laser Droplet Epitaxy　Jpn. J. Appl. Phys.　41巻　6A号　3880-3884頁　2002/06　査読有　研究論文（学術雑誌）
  • Oxidation process in pulsed laser ablation of Si with various ambients　Thin Solid Films　416巻　1号　106-113頁　2002/09　研究論文（学術雑誌）
  • Light-intensity Dependence of Photocreated Defects in Hydrogenated Amorphous Silicon-Nitrogen Alloy Films　Jpn. J. Appl. Phys.　42巻　3A号　25-256頁　2003/03　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Platinum film patterning by laser lift-off using hydrocarbon film on insulating substrates　Applied Physics A: Materials Science & Processing　79巻　4号　1015-1018頁　2004/09　研究論文（学術雑誌）
  • Stark splitting in photoluminescence spectra of Er in a-Si:H　Materials Research Society Symposium Proceedings　862巻　0号　501-506頁　2005/01　研究論文（プロシーディング）
  • Light-intensity dependence of the staebler-wronski effect in a-Si:H with various densities of defects　Materials Research Society Symposium Proceedings　862巻　0号　463-468頁　2005/01　研究論文（プロシーディング）
  • Structural properties of silicon thin films prepared by hot-wire-assisted electron cyclotron resonance chemical vapor deposition　Y. Li, M. Kumeda, A. Morimoto, T. Kawae, G. Chen　Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers　46巻　2号　751-755頁　2007/02　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Environment of Er doped in a-Si:H and its relation with photoluminescence spectra　M. Kumeda, Y. Sekizawa, A. Morimoto, T. Shimizu　Materials Research Society Symposium Proceedings　910巻　1号　131-136頁　2007/10　査読有　原著論文　研究論文（プロシーディング）
  • Fabrication of BiFeO3 Thick Films by a Simple Liquid-Phase Epitaxial Growth Technique　47巻　1号　237-239頁　2008/01
  • Reduced Leakage Current and Ferroelectric Properties in Nd and Mn Codoped BiFeO3 Thin Films　K. Kawae, H. Tsuda, A. Morimoto　Appl. Phys. Express　1巻　51601号　 1-3頁　2008/04　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Etching rate, optical transmittance and charge trapping characteristics of Al-rich Al2O3 thin film fabricated by RF magnetron co-sputtering　J. Vac. Sci.and Technol. B 　26巻　4号　 1373頁　2008/07　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Effect of Microstructure and Crystalline Orientation of Pt Single- or Pt/Ru Bilayer-Electrodes on the Work Function and Leakage Current of SrTiO3 Capacitors　Jpn. J. Appl. Phys.　47巻　8号　 6374-6379頁　2008/08　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Composition Dependence in BiFeO3 Film Capacitor with Suppressed Leakage Current by Nd and Mn Cosubstitution and Their Ferroelectric Properties　Jpn. J. Appl. Phys.　47巻　9号　 7586-7589頁　2008/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Fatigue-resistant epitaxial Pb(Zr,Ti)O3 capacitors on Pt electrode with ultra-thin SrTiO3 template layers　Thin Solid Films　516巻　23号　 8393-8393頁　2008/10　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Improved leakage and ferroelectric properties of Mn and Ti codoped BiFeO3 thin films　Applied Physics Letters　94巻　11号　 112904頁　2009/02　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Hysteresis Behavior of Capacitance–Voltage Curve in (Ba0.6Sr0.4)TiO3 Thick Films Caused by Strained Heterostructure　Jpn. J. Appl. Phys.　48巻　9号　 09KA12頁　2009/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Optical Properties of BiFeO3-System Multiferroic Thin Films　H. Shima, T. Kawae, A. Morimoto, M. Matsuda, M. Suzuki, T. Tadokoro, H. Naganuma, T. Iijima, T. Nakajima, S. Okamura　Jpn. J. Appl. Phys.　48巻　9号　 09KB01頁　2009/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Thickness dependence of the structural and dielectric properties of epitaxial ZrO2 films grown by limited reaction sputtering 　Y. Zhou, K. Sasaki, T. Kawae and A. Morimoto　Journal of Physics D: Applied Physics 　42巻　20号　205406頁　2009/10　査読有
  • Influences of Pr and Mn co-substitution on crystallinity and electric properties of BiFeO3 thin films　T. Kawae, Y. Terauchi, T. Nakajima, S. Okamura, A. Morimoto　Journal of the Ceramic Society of Japan　118巻　1380号　652-655頁　2010/08　査読有　研究論文（学術雑誌）
  • Structure and Electrical Properties of (Pr, Mn)-Codoped BiFeO3/B-Doped Diamond Layered Structure　T. Kawae, Y. Hori, T. Nakajima, H. Kawasaki, N. Tokuda, S. Okamura, Y. Takano and A. Morimoto　Electrochemical and Solid-State Letters　14巻　6号　G31頁　2011/03　査読有　研究論文（学術雑誌）
  • Growth of preferentially-oriented AlN films on amorphous substrate by pulsed laser deposition 　Z. P. Wang, A. Morimoto, T. Kawae, H. Ito and K. Masugata　Physics Letters, Section A　375巻　33号　3007頁　2011/08　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Influence of SrRuO3 bottom electrode thickness on electric properties of (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3 Ultra-thin film capacitor　T. Kawae, T. Tsukada, Y. Terauchi, T. Nakajima, Y. Nomura, S. Okamura and A. Morimoto　Jpn. J. Appl. Phys.　50巻　9号　 09NA09頁　2011/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Hysteresis loops of polarization and magnetization in (BiNd 0.05)(Fe0.97Mn0.03)O3/Pt/CoFe 2O4 layered epitaxial thin film grown by pulsed laser deposition　T. Kawae, J. Hu, H. Naganuma, T. Nakajima, Y. Terauchi, S. Okamura and A. Morimoto　Thin Solid Films　519巻　22号　7727頁　2011/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Charge trapping characteristics of Al2O3/Al-rich Al2O3/SiO2 stacked films fabricated by radio-frequency magnetron co-sputtering 　S. Nakata, R. Maeda, T. Kawae, A. Morimoto and T. Shimizu　Thin Solid Films　520巻　3号　1091頁　2011/11　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Variation of ferroelectric properties in (Bi,Pr)(Fe,Mn)O 3/SrRuO 3-Pt/CoFe 2O 4 layered film structure by applying direct current magnetic field 　C. Liu, T. Kawae, Y. Tsukada, A. Morimoto, H. Naganuma, T. Nakajima and S. Okamura　J. Appl. Phys.　111巻　12号　124103頁　2012/06　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Fabrication of (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3 thin films on poly-crystalline diamond substrate by chemical solution deposition and their properties　T. Kawae, H. Kawasaki, T. Nakajima, N. Tokuda, S. Okamura, A. Morimoto and Y. Takano　Jpn. J. Appl. Phys.　51巻　9号　09LA08頁　2012/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Polarization-Induced Photovoltaic Effects in Nd-Doped BiFeO3 Ferroelectric Thin Films 　Y. Ukai, S. Yamazaki, T. Kawae and A. Morimoto　Jpn. J. Appl. Phys.　51巻　9号　09LE10頁　2012/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Fabrication and Characterization of Metal–Ferroelectric–Insulator–Semiconductor Capacitor Structure with Ferroelectric (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3 Thin Films 　T. Kawae Y. Seto A. Morimoto　Jpn. J. Appl. Phys.　52巻　2号　04CH03頁　2013/02　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Improvement of charge trapping characteristics of Al2O 3/Al-rich Al2O3/SiO2 stacked films by thermal annealing 　S. Nakata, T. Kato, S. Ozaki, T. Kawae, A. Morimoto　Thin Solid Films　542巻　242頁　2013/09　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Fabrication and Characterization of Metal–Ferroelectric–Insulator–Semiconductor Capacitor Structure with Ferroelectric (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3 Thin Films 　T. Kawae, Y. Seto, A. Morimoto　Jpn. J. Appl. Phys.　52巻　04CH03頁　2013/04　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Influences of low-temperature postdeposition annealing on memory properties of Al/Al2O3/Al-rich Al-O/SiO2/p-Si charge trapping flash memory structures 　S. Ozaki, T. Kato, T. Kawae, A. Morimoto　J.of Vac. Sci. and Technol. B: 　32巻　3号　31213頁　2014/05　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Retention properties with high-temperature resistance in (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3 thin film capacitor　Y. Nomura, K.Nomura, K. Kinoshita, T. Kawae, A. Morimoto　Phys. Status Solidi RRL　8巻　536頁　2014/06　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）
  • Temperature dependence of ferroelectric properties and the activation energy of polarization reversal in (Pr,Mn)-codoped BiFeO3 thin films 　Y. Nomura, T.Tachi, T. Kawae, A. Morimoto　Phys. Status Solidi B　252巻　4号　833頁　2015/01　査読有　原著論文　研究論文（学術雑誌）

講演・口頭発表等

  • Structural and electrical properties of BiFeO3 thin films deposited on polycrystalline diamond substrates(会議名：Plasma Conference2011 (Plasma2011))(2011)
  • Polarization-induced photovoltaic effect in Er-doped BiFeO3 ferroelectric films(会議名：Plasma Conference2011 (Plasma2011))(2011)
  • Structural and electrical properties of (Pr, Mn)-codoped BiFeO3/B-doped diamond heterostructure(会議名：9th International Meeting of the Pacific Rim Ceramic Societies conference (PACRIM9))(2011)
  • Temperature dependence of ferroelectric properties in (Pr, Mn) codoped BiFeO3 thin films (会議名：9th International Meeting of the Pacific Rim Ceramic Societies conference (PACRIM9))(2011)
  • Dependence of electric properties of BiFeO3 ultra thin film capacitors on thickness of SrRuO3 bottom electrode(会議名：27th Meeting on Ferroelectric Materials and Their Applications (FMA-27))(2011)

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  • 多結晶ダイヤモンド基板上に堆積したBiFeO3薄膜の特性評価(会議名：平成23年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（金沢歌劇座）)(2011)
  • CSD法によるBiFeO3極薄膜キャパシタの作製(会議名：平成23年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（金沢歌劇座）)(2011)
  • Al/Al2O3/Al-rich Al-O/SiO2/p-Si構造におけるメモリ特性のアニールによる改善(会議名：平成23年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（金沢歌劇座）)(2011)
  • (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3/B-doped diamond積層構造の作製と高温動作に関する検証(会議名：2011年日本セラミックス協会第24回秋季シンポジウム（北海道大学）)(2011)
  • Pr,Mn二元素置換BiFeO3薄膜の高温特性評価(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • BiFeO3/高濃度B 添加(111)ダイヤモンド積層構造における高温特性評価(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • アモルファスMgO層の潮解性を利用したBFO自立膜の作製と評価(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • BiFeO3/高濃度B 添加(111)ダイヤモンド積層構造における高温特性評価(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • 二元素置換BiFeO3薄膜を用いたMFIS 型キャパシタの作製と評価(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • Pr,Mn二元素置換BiFeO3薄膜の疲労耐性向上に関する検討(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • Pr,Mn二元素置換BiFeO3薄膜の分極値に対する活性化エネルギー評価(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • (Bi1.0Pr0.1)(Fe0.97Mn0.03)O3/SrRuO3/Pt/CoFe2O4積層膜の作製と電気磁効果の電気磁効果の検証(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • PLD法によるNb添加a-Fe2O3薄膜の作製と光電特性(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • Al/Al2O3/Al-rich Al-O/SiO2/p-Si構造のメモリ特性(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • アモルファスMgOの潮解性を用いたPZT薄膜のマイクロパターニングおよび評価(会議名：第72回 応用物理学会学術講演会（山形大学）)(2011)
  • T. Kawae, Y. Seto, and A. Morimoto Fabrication and characterization of MFIS capacitor structure with ferroelectric (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3 thin films(会議名：International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2012))(2012)
  • Micropatterning of crystallized Pb(Zr,Ti)O3 films by deliquescence of amorphous MgO(会議名：International Conference on Electronic Materials (IUMRS-ICEM 2012))(2012)
  • Nd置換BiFeO3強誘電体薄膜における分極誘起光起電力効果 (会議名：第29回強誘電体応用会議（コープイン京都）)(2012)
  • 化学溶液法による多結晶ダイヤモンド上への(Bi,Pr)(Fe,Mn)O3薄膜の作製と評価(会議名：第29回強誘電体応用会議（コープイン京都）)(2012)
  • (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3/SrRuO3-Pt/CoFe2O4積層構造の作製とME効果に関する検証 (会議名：2012年 日本セラミックス協会年会（京都大学）)(2012)
  • Al/Al2O3/Al-rich Al-O/SiO2/p-Si構造におけるメモリ特性のアニールによる改善（I） (会議名：第59回 応用物理学関係連合講演会（早稲田大学）)(2012)
  • Al/Al2O3/Al-rich Al-O/SiO2/p-Si構造におけるメモリ特性のアニールによる改善（II）(会議名：第59回 応用物理学関係連合講演会（早稲田大学）)(2012)
  • Nd置換BiFeO3強誘電体薄膜における分極誘起光起電力効果(会議名：第59回 応用物理学関係連合講演会（早稲田大学）)(2012)
  • 多結晶ダイヤモンド基板上へのBiFeO3薄膜の作製と高温特性評価(会議名：第59回 応用物理学関係連合講演会（早稲田大学）)(2012)
  • (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3薄膜におけるエレクトリックモジュラスの評価 (会議名：2012年 日本セラミックス協会第25回秋季シンポジウム（名古屋大学）)(2012)
  • (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3薄膜における誘電損失の活性化エネルギー評価 (会議名：第73回 応用物理学会学術講演会（愛媛大学）)(2012)
  • 金属/(Bi,Pr)(Fe,Mn)O3/SiO2/p-Si構造の電気特性に対する上部電極の影響(会議名：第73回 応用物理学会学術講演会（愛媛大学）)(2012)
  • (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3薄膜における分極飽和特性の面方位依存性(会議名：第73回 応用物理学会学術講演会（愛媛大学）)(2012)
  • BiFeO3/SrTiO3/B添加ダイヤモンド積層構造の疲労特性評価(会議名：第73回 応用物理学会学術講演会（愛媛大学）)(2012)
  • Ru電極を用いたa-Fe2O3薄膜の作製と光起電力効果 (会議名：平成24年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（富山市）)(2012)
  • ミスカットNb:SrTiO3基板上に作製したBiFeO3極薄膜の表面モフォロジ評価(会議名：平成24年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（富山市）)(2012)
  • Ca(OH)2の潮解性を用いたPZTキャパシタ構造の形成(会議名：平成24年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（富山市）)(2012)
  • 水リフトオフプロセスによるマトリクス型酸化物キャパシタの作製(会議名：平成24年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（富山市）)(2012)
  • Au/(Bi,Pr)(Fe,Mn)O3/TiO2/p-Si構造におけるメモリ特性評価(会議名：平成24年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（富山市）)(2012)
  • エピタキシャル(Bi,Pr)(Fe,Mn)O3薄膜の欠陥準位評価(会議名：平成24年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（富山市）)(2012)
  • MOS型電荷蓄積メモリ素子におけるデバイス特性評価の検証(会議名：平成24年度 応用物理学会北陸・信越支部学術講演会（富山市）)(2012)
  • Micropatterning of Pb(Zr,Ti)O3 Films by Water Lift-off Process using Deliquescence of Amorphous CaO (会議名：International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2013) )(2013)
  • Improvement of Memory Properties by N2 Annealing of Al/Al2O3/Al-rich Al-O/SiO2/p-Si Structure(会議名：International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2013) )(2013)
  • Retention Properties of (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3 Thin Film Stored at High Temperature(会議名：International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2013) )(2013)
  • Fatigue Characteristics of BFO/STO/B-doped Diamond Layered Structures(会議名：International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2013) )(2013)
  • (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3極薄膜の高温保持特性における分極疲労の影響 (会議名：第30回強誘電体応用会議（コープイン京都）)(2013)
  • ミスカット基板上に作製した(Bi,Pr)(Fe,Mn)O3極薄膜の表面モフォロジと電気特性の評価 (会議名：第60回 応用物理学関係連合講演会（神奈川工科大学）)(2013)
  • BiFeO3/B添加ダイヤモンド積層構造における欠陥準位評価(会議名：第60回 応用物理学関係連合講演会（神奈川工科大学）)(2013)
  • Nd置換BiFeO3強誘電体薄膜における光起電力特性(会議名：第60回 応用物理学関係連合講演会（神奈川工科大学）)(2013)
  • α-Fe2O3薄膜の光起電力特性とそのドーピング効果(会議名：第60回 応用物理学関係連合講演会（神奈川工科大学）)(2013)
  • 水リフトオフプロセスを用いた酸化物キャパシタ構造の作製 (会議名：2013年 日本セラミックス協会年会（東京工業大学）)(2013)
  • (Bi,Pr)(Fe,Mn)O3薄膜の高温保持特性評価(会議名：2013年 日本セラミックス協会年会（東京工業大学）)(2013)
  • PLA法で作製した非鉛(Ba,Sr)(Zr,Ti)O3薄膜のキャパシタ特性 (2006)
  • 水素化アモルファスSiのErの環境と発光スペクトル (2006)
  • PLA法によるc -sapphire基板上でのSTO/Ru/Pt構造の作製と評価 (2006)
  • 電子ビーム誘起選択成長を利用した金属パターニングにおける作製条件依存性 (2006)
  • PLA法で作製したEr-doped BiFeO3薄膜におけるPL発光特性 (2008)
  • (Bi,Nd)(Fe,Mn)O3薄膜の各種特性に与える元素置換量の影響 (2008)
  • 拡散バリアによるPt薄膜へのRu拡散抑制方法 (2009)
  • ダイヤモンド超伝導体薄膜の作製と接合形成に向けた微細加工の検討 (2009)
  • (Ba0.6Sr0.4)TiO3高誘電体厚膜のC-V特性における歪み誘起ヒステリシス（II） (2009)
  • Er-deped BiFeO3薄膜におけるPL発光特性 (2009)
  • Pr,Mn同時添加 BiFeO3 薄膜の作製と評価 (2009)
  • Mn,Ti 二元素置換 BiFeO3 薄膜における強誘電特性およびリーク電流特性 (2009)
  • レーザリフトオフ法を用いたSi基板上へのBi:YIG薄膜の作製 (2009)
  • Al/Al2O3/Al-rich AlO/SiO2/Si構造のメモリ特性 (2009)
  • Nb:STOを用いたSBD及びMISキャパシタの作製と評価 (2009)
  • Bi1.0Nd0.05Fe0.97Mn0.03O3を強誘電体層に用いたMFIS型キャパシタの作製と評価 (2009)
  • Er-doped BiNd0.03FeO3薄膜を用いたMIMキャパシタ構造におけるPL観測 (2009)
  • BiFeO3 薄膜の分極反転に要する電圧低減に向けた検討 (2009)
  • PLD法によるBi1Nd0.05Fe0.97Mn0.03/Pt/CoFe2O4積層膜の作製と評価 (2009)
  • (Ba0.6Sr0.4)TiO3高誘電体厚膜のC-V特性における歪み誘起ヒステリシス (III) (2009)
  • Al/amorphous SrTiO3薄膜界面における酸化膜形成によるリーク電流抑制効果 (2009)
  • (Bi1.0Pr0.10)(Fe0.97Mn0.03)O3を用いたMFIS構造の作製と評価 (2010)
  • Pr, Mn ニ元素置換BiFeO3薄膜の低温物性評価 (2010)
  • Chemical Solution Deposition法によるPr，Mn二元素置換BiFeO3薄膜の作製と評価 (2010)
  • Al/Al2O3/Al-rich Al-O/SiO2/Si構造のメモリ特性（II） (2010)
  • Au/BNFM/Nb:STO構造を用いたMFS型キャパシタの作製と評価 (2010)
  • Pt/Ru複合下部電極上のSTO高誘電体薄膜の電気特性 (2007)
  • PLA法による非鉛(Ba,Sr)(Zr,Ti)O3薄膜の作製 (2006)
  • レーザリフトオフ法によるPtパターニングにおける加工限界 (2006)
  • 単結晶ターゲットを用いたPLA法による光導波路用LiNbO3薄膜の作製と音響信号モニタリング(2) (2006)
  • Nd, Mn 共置換 BiFeO3 薄膜の強誘電特性の評価 (2008)
  • SrTiO3MIMキャパシタのリーク電流に対するRu電極の仕事関数の影響 (2008)
  • BEN処理を用いたSi基板上への高濃度Bドープダイヤモンド薄膜の作製と超伝導特性評価 (2008)
  • 金属/誘電体/金属薄膜キャパシタのリーク電流における界面効果 (2008)
  • レーザリフトオフ法による高誘電体薄膜上へのPt電極作製 (2006)
  • 電子線誘起によるa-Si:Hへの金属薄膜の選択成長 (2007)
  • PLA法で作製したEr-doped LiNbO3 薄膜におけるPLの電界印加効果 (2007)
  • 金属-誘電体-金属薄膜キャパシタにおける下部電極構造の違いによるショットキバリア変化 (2007)
  • レーザリフトオフ法によるPb(Zr,Ti)O3強誘電体薄膜キャパシタの作製と分極疲労特性 (2007)
  • Al-rich Al-O薄膜の光学吸収特性および電気輸送特性 (2007)
  • 熱処理後のAl-rich Al-O不揮発メモリー特性 (2007)
  • 高誘電体薄膜上へのレーザリフトオフ法によるPt電極作製 (2007)
  • 赤外線集光加熱によるBiFeO3液相成長膜の作製 (2007)
  • (Ba,Sr)TiO3高誘電体薄膜キャパシタのDLTS評価 (2007)
  • r.f.マグネトロンスパッタ法で作製したa-Si:Hの表面状態の作製条件依存性 (2008)
  • Al2O3薄膜中のErの発光に対するSiクラスターの役割 (2008)
  • HW支援ECR-CVDによって作製したµc-Si:Hの評価 (2006)
  • PLA法によるSrRuO3電極上への非鉛(Ba,Sr)(Zr,Ti)O3薄膜の作製と評価 (2006)
  • レーザリフトオフ法を用いたYBa2Cu3O7-x薄膜のパターニング (2010)
  • BiFeO3極薄膜キャパシタの電気特性におけるSrRuO3下部電極の膜厚依存性 (2011)
  • BiFeO3/(111)diamond積層構造の作製と強誘電特性評価 (2011)
  • Pr,Mn二元素置換BiFeO3薄膜の低温物性評価 (2011)
  • アモルファスMgO層の潮解性を利用したPZT転写膜の作製と評価 (2011)
  • PLD法によるBi1Nd0.05Fe0.97Mn0.03O3/Pt/CoFe2O4積層膜の作製と強誘電・強磁性特性の評価 (2010)
  • 透明電極基板上π共役分子TPAのSTMによる微視的解析 (2011)
  • ITO/YSZ(111)上のテレフタルアルデヒド分子の雰囲気制御FM-AFMによる観察 (2011)
  • BiFeO3/ボロン添加ダイヤモンド積層膜の作製と評価 (2010)
  • CSD法により作製されたPr,Mn同時添加BiFeO3薄膜の疲労特性評価 (2011)

その他（報告書など）

  • 拡散バリアによるPt薄膜へのRu拡散抑制方法　○（P）金　兌映1，吉武道子1，森本章治2，川崎健太郎2，川江　健2，柳生進二郎1，知京豊裕1 　応用物理学会　2009//3　⑮その他
  • ダイヤモンド超伝導体薄膜の作製と接合形成に向けた微細加工の検討　○川江　健1，吉田和弘1，奥野央典2，飯山宏一1，高野義彦3，森本章治1 　応用物理学会　2009//3　⑮その他
  • (Ba0.6Sr0.4)TiO3高誘電体厚膜のC-V特性における歪み誘起ヒステリシス（II）　○福田勇二1，棟朝賢史朗2，森戸健太郎3，川江　健1，森本章治1 　応用物理学会　2009//3　⑮その他
  • Er-deped BiFeO3薄膜におけるPL発光特性　○山村隆介1，芳里有司2，川江　健1，森本章治1 　応用物理学会　2009//3　⑮その他
  • Pr,Mn同時添加 BiFeO3 薄膜の作製と評価　○川江　健1，寺内裕紀2，津田　尚1，山田　悟3，森本章治1 　応用物理学会　2009//3　⑮その他

全て表示

  • Mn,Ti 二元素置換 BiFeO3 薄膜における強誘電特性およびリーク電流特性　○寺内裕紀1，津田　尚2，川江　健2，中嶋宇史4，山田　悟3，岡村総一郎4，森本章治2 　応用物理学会　2009//3　⑮その他
  • レーザリフトオフ法を用いたSi基板上へのBi:YIG薄膜の作製　○中川裕樹1，金村佳典2，川江　健1，森本章治1 　応用物理学会　2009//3　⑮その他
  • Al/Al2O3/Al-rich AlO/SiO2/Si構造のメモリ特性　○（M2）前田諒二1，中田俊司2，川江　健1，森本章治1 　応用物理学会　2009//9　⑮その他
  • Nb:STOを用いたSBD及びMISキャパシタの作製と評価　○アリ ファラ　アシキン1，長田潤一2，川江　健1，森本章治1 　応用物理学会　2009//9　⑮その他
  • Bi1.0Nd0.05Fe0.97Mn0.03O3を強誘電体層に用いたMFIS型キャパシタの作製と評価　○西岡直紀1，周　　英1，猪阪直也1，寺内裕紀1，橋本卓也2，川江　健1，佐々木公洋1，森本章治1 　応用物理学会　2009//9　⑮その他
  • Er-doped BiNd0.03FeO3薄膜を用いたMIMキャパシタ構造におけるPL観測　○山村隆介1，鵜飼洋平2，川江　健1，森本章治1 　応用物理学会　2009//9　⑮その他
  • BiFeO3 薄膜の分極反転に要する電圧低減に向けた検討　○寺内裕紀1，川江　健1，中嶋宇史3，山田　悟2，岡村総一郎3，森本章治1 　応用物理学会　2009//9　⑮その他
  • PLD法によるBi1Nd0.05Fe0.97Mn0.03/Pt/CoFe2O4積層膜の作製と評価　○胡　　潔1，寺内裕紀1，金　兌映2，川江　健1，山田　悟3，森本章治1 　応用物理学会　2009//9　⑮その他
  • (Ba0.6Sr0.4)TiO3高誘電体厚膜のC-V特性における歪み誘起ヒステリシス (III)　○福田勇二1，棟朝賢史朗2，川江　健1，森本章治1 　応用物理学会　2009//9　⑮その他
  • Al/amorphous SrTiO3薄膜界面における酸化膜形成によるリーク電流抑制効果　○（P）金　兌映1，吉武道子1，森本章治2，川江　健2，柳生進二郎1，スラボミル ネムシャク1，知京豊裕1 　応用物理学会　2009//9　⑮その他
  • (Bi1.0Pr0.10)(Fe0.97Mn0.03)O3を用いたMFIS構造の作製と評価　○西岡直紀1，橋本卓也2，猪阪直也1，寺内裕紀1，中井裕和2，川江　健1，佐々木公洋1，森本章治1　応用物理学会　2010//3　⑮その他
  • Pr, Mn ニ元素置換BiFeO3薄膜の低温物性評価　○野村幸寛1，寺内祐紀1，川江　健1，山田　悟2，森本章治1　応用物理学会　2010//3　⑮その他
  • Chemical Solution Deposition法によるPr，Mn二元素置換BiFeO3薄膜の作製と評価　○中井裕和1，橋本卓也1，寺内裕紀2，中嶋宇史3，川江　健2，岡村総一郎3，森本章治2　応用物理学会　2010//3　⑮その他
  • Al/Al2O3/Al-rich Al-O/SiO2/Si構造のメモリ特性（II）　○前田諒二1，中田俊司2，清水立生3，川江　健1，森本章治1　応用物理学会　2010//3　⑮その他
  • Au/BNFM/Nb:STO構造を用いたMFS型キャパシタの作製と評価　○ファラ　アシキン アリ1，長田潤一2，野村幸寛1，川江　健1，森本章治1　応用物理学会　2010//3　⑮その他
  • レーザリフトオフ法を用いたYBa2Cu3O7-x薄膜のパターニング　○大西史哉1，島野優一2，川江　健1，大坪　茂3，山田　悟3，森本章治1　応用物理学会　2010//9　⑮その他
  • BiFeO3/ボロン添加ダイヤモンド積層膜の作製と評価　○芳里有司1，川崎寛樹2，川江　健1，徳田規夫1，高野義彦3，森本章治1　応用物理学会　2010//9　⑮その他
  • PLD法によるBi1Nd0.05Fe0.97Mn0.03O3/Pt/CoFe2O4積層膜の作製と強誘電・強磁性特性の評価　胡　　潔1，○川江　健1，永沼　博2，中嶋宇史3，寺内裕紀1，金　兌映4，安藤康夫2，岡村総一郎3，森本章治1　応用物理学会　2010//3　⑮その他
  • BiFeO3/ボロン添加ダイヤモンド積層膜の作製と評価　○芳里有司1，川崎寛樹2，川江　健1，徳田規夫1，高野義彦3，森本章治1　応用物理学会　2011//3　⑮その他
  • ITO/YSZ(111)上のテレフタルアルデヒド分子の雰囲気制御FM-AFMによる観察　○山谷　寛1，山村隆介1，鵜飼洋平1，川江　健1，森本章治1，米内洋貴2，村田英幸2，大田昌弘3，粉川良平3，新井豊子1　応用物理学会　2011//3　⑮その他
  • 透明電極基板上π共役分子TPAのSTMによる微視的解析　○高田真希1，中村　翔1，山谷　寛1，山村隆介1，鵜飼洋平1，川江　健1，森本章治1，米内洋貴2，村田英幸2，新井豊子1　応用物理学会　2011//3　⑮その他
  • アモルファスMgO層の潮解性を利用したPZT転写膜の作製と評価　○松岡　樹1，川江　健1，的場彰成2，米澤保人2，森本章治1　応用物理学会　2011//3　⑮その他
  • Pr,Mn二元素置換BiFeO3薄膜の低温物性評価　○立居卓志1，野村幸寛2，瀬戸佑一郎1，川江　健2，森本章治2　応用物理学会　2011//3　⑮その他
  • BiFeO3極薄膜キャパシタの電気特性におけるSrRuO3下部電極の膜厚依存性　○塚田祥賀1，寺内裕紀2，川江　健2，中嶋宇史3，岡村総一郎3，森本章治2　応用物理学会　2011//3　⑮その他
  • BiFeO3/(111)diamond積層構造の作製と強誘電特性評価　○川崎寛樹1，芳里有司2，川江　健2，中嶋宇史3，徳田規夫2，高野義彦4，岡村総一郎3，森本章治2　応用物理学会　2011//3　⑮その他
  • CSD法により作製されたPr,Mn同時添加BiFeO3薄膜の疲労特性評価　○瀬戸佑一郎1，野村幸寛2，立居卓志1，川江　健2，森本章治2　応用物理学会　2011//3　⑮その他

芸術・フィールドワーク

特許

○強誘電体薄膜及び強誘電体薄膜素子の製造方法、並びに強誘電体薄膜構造及び強誘電体薄膜素子(公開年月：1999/04)(出願国名：日本)(特許番号：特開平11-103027)
○下部電極及びそれを利用した光学素子(公開年月：2003/01)(出願国名：日本)(特許番号：特開2003-15098)
○BSZT誘電体、キャパシタ及び不揮発性メモリ並びにそれらの製造方法(公開年月：2007/10/01)(出願国名：日本)(特許番号：特開2007-258252)
○強誘電体材料及び圧電体(公開年月：2009/10/01)(出願国名：日本)(特許番号：特開2009-231482)
○強誘電体、圧電体及びこれらの製造方法(公開年月：2010/09)(出願国名：日本)(特許番号：特開2010-219157)
○半導体メモリ (公開年月：2011/09)(出願国名：日本)(特許番号：特開2011-176168)
○抵抗変化型メモリ及び抵抗変化型メモリの製造方法 (公開年月：2015/12/07)

共同研究希望テーマ

○電子ビームやレーザを利用したサブミクロン及びナノサイズ配線
○パルスレーザアブレーション（PLD）法を用いた機能性酸化物薄膜の作製とそのデバイス化

科研費

○基盤研究（Ｃ）「レ-ザアブレ-ションにおける薄膜堆積機構解明」(1996-1996)　代表者
○基盤研究（Ｂ）「レーザドロプレットエピタクシ法による高品質電子材料薄膜の作製」(1998-1999)　代表者
○萌芽研究（2002-2008）「電子ビーム誘起効果を用いた選択成長によるナノファブリケーション」(2003-2004)　代表者
○基盤研究（Ｃ）「アモルファスSi中のErの発光に対するダングリングボンドの役割」(2004-2006)　分担者
○特定領域研究（Ａ）（1998-2001）「エルビウム添加強誘電体薄膜の作製と圧電効果を用いた発光制御」(2007-2007)　代表者
○特別研究促進費「エルビウム添加強誘電体薄膜の作製と圧電効果を用いた発光制御」(2008-2008)　代表者
○挑戦的萌芽研究「低環境負荷金属酸化物を用いた中間バンド半導体薄膜の開発と光電特性」(2011-2012)　代表者
○挑戦的萌芽研究「強誘電体薄膜を用いたReRAM型高機能不揮発メモリの開発と機構解明」(2014-2015)　代表者
○基盤研究(C)「鉄系ペロブスカイト酸化膜の強誘電性分極を用いた新規太陽電池の創成」(2016-2018)　代表者

競争的資金・寄付金等

○競争的資金(学外)　(1995-)　研究　レーザアブレーション法による強誘電体不揮発メモリの作製　村田学術振興財団・研究助成金
○競争的資金(学外)　(1999-)　研究　レーザドロプレットエピタクシ法による電子材料薄膜の作製　財団法人材料科学技術振興材団・研究助成金
○競争的資金(学外)　(2000-)　研究　PLA法による不揮発メモリ素子の開発　北陸産業活性化センター・研究助成金
○競争的資金(学外)　(2005-2006)　研究　パルスレーザ利用リフトオフ法によるチップ間微細配線技術の開発　シーズ育成試験　独立行政法人科学技術振興機構
○競争的資金(学外)　(2006-)　研究　高誘電率誘電体薄膜の評価技術構築・要素技術構築　民間等との共同研究計画
○競争的資金(学外)　(2006-)　研究　パルスレーザ利用リフトオフ法によるチップ間微細配線技術の開発　JST・シーズ育成試験研究
○競争的資金(学外)　(2007-)　研究　高誘電率誘電体薄膜の評価技術構築・要素技術構築　民間等との共同研究計画
○競争的資金(学外)　(2010-2014)　教育　産学連携による博士人材のキャリア形成教育プログラム　科学技術振興調整費　「イノベーション創出若手研究人材養成事業」　文部科学省（科学技術振興機構JST）
○競争的資金(学外)　(2012-2013)　研究　強誘電性自発分極を利用した多値記録抵抗変化メモリの開発　研究成果展開事業 研究成果最適展開支援プログラム 【ＦＳ】ステージ　探索タイプ　科学技術振興機構

共同研究・受託研究実績

○レーザアブレーションによる酸化物機能性薄膜の作製(1991-1998)
○レーザアブレーションによる光IC要素技術の開発(1999-2003)
○レーザーアブレーションによる高誘電体薄膜/電極薄膜の作製と評価(2004-2007)

A-STEP採択課題

学域・学類担当授業科目

○プレゼン・ディベート論（初学者ゼミⅡ）(2017)
○学外技術体験実習Ａ(2017)
○プレゼン・ディベート論（初学者ゼミⅡ）(2017)
○初学者ゼミⅠ(2017)
○物理学Ⅱ(2017)
○プレゼン・ディベート論（初学者ゼミⅡ）(2017)
○プレゼン・ディベート論（初学者ゼミⅡ）(2017)
○半導体工学(2017)
○学外技術体験実習Ｂ(2017)
○電子物性(2017)
○電子デバイス(2017)
○地域概論(2017)
○初学者ゼミⅠ(2017)
○初学者ゼミⅠ(2016)
○学外技術体験実習Ｂ(2016)
○地域概論(2016)
○初学者ゼミⅠ(2016)
○プレゼン・ディベート論（初学者ゼミⅡ）(2016)
○半導体工学(2016)
○学外技術体験実習Ａ(2016)
○物理学Ⅱ(2016)
○プレゼン・ディベート論（初学者ゼミⅡ）(2016)
○電子情報生命工学序論Ａ(2016)
○電子物性(2016)
○電子デバイス(2016)

大学院担当授業科目

○長期インターンシップイノ若(2017)
○サイエンス＆イノベーションセミナー(2017)
○学内基礎研修（ＧＳ－イノ若）(2017)
○学内基礎研修（ＧＳ－イノ若）(2017)
○異分野研究(2017)
○国際プレゼンテーションイノ若(2017)
○固体物性評価基礎論Ａ(2017)
○企業体験実習(2017)
○技術経営論入門Ｂ(2017)
○技術経営論入門Ａ(2017)
○異分野研究Ｂ（ＧＳ－イノ若）(2017)
○酸化物エレクトロニクス(2017)
○長期インターンシップ（ＧＳ－イノ若）(2017)
○酸化物エレクトロニクス(2017)
○異分野研究Ａ（ＧＳ－イノ若）(2017)
○長期インターンシップ（ＧＳ－イノ若）(2017)
○学内基礎研修(2017)
○技術経営論入門Ｂ（国際インタラクティブＥＳＤコース）(2017)
○技術経営論入門Ａ（国際インタラクティブＥＳＤコース）(2017)
○酸化物エレクトロニクス(2017)
○技術経営論入門（国際インタラクティブＥＳＤコース）(2017)
○キャリアパス形成ゼミ(2017)
○酸化物エレクトロニクス(2017)
○長期インターンシップイノ若(2017)
○技術経営論入門Ｂ（ＧＳ－イノ若）(2017)
○国際コミュニケーション演習(2017)
○異分野研究(2017)
○海外研究留学(2017)
○国際コミュニケーション演習（ＧＳ－イノ若）(2017)
○技術経営論入門Ａ（ＧＳ－イノ若）(2017)
○キャリアパス形成ゼミ（ＧＳ－イノ若）(2017)
○サイエンス＆イノベーションセミナー（ＧＳ－イノ若）(2017)
○国際プレゼンテーション（ＧＳ－イノ若）(2017)
○国際プレゼンテーション（ＧＳ－イノ若）(2016)
○国際プレゼンテーション(2016)
○海外研究留学(2016)
○サイエンス＆イノベーションセミナー(2016)
○学内基礎研修(2016)
○技術経営論入門（ＧＳ－ＩＩ－ＥＳＤ）(2016)
○キャリアパス形成ゼミ（ＧＳ－イノ若）(2016)
○キャリアパス形成ゼミ(2016)
○酸化物エレクトロニクス(2016)
○異分野研究(2016)
○技術経営論入門(2016)
○固体物性評価基礎論Ａ(2016)
○サイエンス＆イノベーションセミナー（ＧＳ－イノ若）(2016)
○技術経営論入門（国際インタラクティブＥＳＤコース）(2016)
○学内基礎研修（ＧＳ－イノ若）(2016)
○国際コミュニケーション演習(2016)
○異分野研究Ａ（ＧＳ－イノ若）(2016)
○長期インターンシップ(2016)
○国際コミュニケーション演習（ＧＳ－イノ若）(2016)
○長期インターンシップ（ＧＳ－イノ若）(2016)
○異分野研究Ｂ（ＧＳ－イノ若）(2016)
○技術経営論入門（ＧＳ－イノ若）(2016)
○企業体験実習(2016)
○異分野研究(2016)
○国際コミュニケーション演習（ＧＳ－イノ若）(2016)
○国際コミュニケーション演習(2016)
○学内基礎研修（ＧＳ－イノ若）(2016)
○長期インターンシップ(2016)
○長期インターンシップイノ若(2016)

他大学の客員教授

○北京工業大学

教育活動（FD）に関する研究

○金沢大学工学部電気電子システム工学科における創成科目の取り組み(2004)
○教官顕彰制度導入の取り組み （副題）－教官顕彰制度と授業評価アンケート－(2004)
○GPAの導入と成績評価の厳格化(2003)
○MOTコース企画・実施例(2004)
○金沢大学の産学連携による博士人材のキャリア形成教育(2012)

国際事業協力

留学生参加の社会活動

審議会等の参加

○石川県エレクトロニクス実装技術研究交流会エレクトロニクス実装技術研究交流会委員(1997/04-1998/03)
○高機能レーザアブレーション加工の産業応用委員(1999/04/01-2003/03/31)
○次世代レーザプロセシングとその産業応用調査専門委員会委員(2003/04/01-2006/03/31)
○特別研究員等審査会専門委員(2004/08/01-2006/07/31)
○金沢市立工業高等学校工業教育懇話会委員委員(2005/12/01-2007/08/17)
○金沢市立工業高等学校授業力評価委員　委員(2006/05/01-2008/03/31)
○最先端レーザマイクロ・ナノ加工とその応用調査専門委員会委員(2006/04/01-2009/03/31)
○イノベーション創成センター協力会参与(2009/07/09-2010/06/30)
○石川県工業試験場研究外部評価委員委員(2010/07/01-2013/06/30)
○石川賢工業試験場石川県技術アドバイザー(2004/04/01-2008/03/31)

講演可能なテーマ

○パルスレーザで創る酸化物エレクトロニクス(キーワード：エキシマレーザ,酸化物エレクトロニクス,電子デバイス)

その他公的社会活動

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